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应用领域:化工 | 物料类型:气体 | 适用物料:气体 |
动力类型:气动 | 品牌:晟宇 | 型号:CYN2-10 |
别名:氮气净化装置 | 产品类型:全新 | 操作类型:自动 |
规格:1 |
一键启动氮气纯化装置全自动氮气纯化器实验室氮气纯化机工作原理
实验室设备应以小巧,精致,美观,实用为。本公司实验室微型纯化器最小处理量1m3/h,外形尺寸500mmx500mmx1200mm,合理的长宽布局,人性化的设计高度使操作更灵敏直观,脚轮式设计移动更方便,所有设备选用催化剂,干燥剂更换周期都在伍年以上,配以优质电器可以***设备3年质保期内零故障,满足实验室整体小巧美观,经久耐用的使用原则。本装置一键启动,半自动控制模式
一键启动氮气纯化装置全自动氮气纯化器实验室氮气纯化机氮气纯化方法:
装置工作设有两组工作组,填装的净化材料属于可再生重复利用材料。原料液氮经汽化器汽化后由设备工作进口进入设备一组工作组,经脱氧剂、分子筛及精密高效过滤器(0.1?m)后送出至工作点使用。
一组工作组负荷饱和后,切换到另一组工作组工作,***为使用点连续的提供高纯氩气。同时一组工作组开始再生加热加氢反吹洗(本系统加氢是为了还原脱氧剂,加氢结束后设备自动吹洗并直接放空),为等待下一次切换使用做好准备。
装置工作为常温工作,压降小、脱氧程度深、碳水含量低,均可达到并高于GB高纯氮气标准。
一键启动氮气纯化装置全自动氮气纯化器实验室氮气纯化机氮气纯化装置的技术指标:
1、处***量 >2m3/h
2、原料氩气纯度 液氮纯度>99.***
3、工作压力 0.4-0.6MPa可调
4、纯化后纯度符合并高于GB/T8979-2008高纯氮99.99***指标
1、处***量:≥2Nm3/h
2、氮气纯度:含氧量≤0.3PPm H2<0.1ppm
露 点≤-70℃ CO2<0.1ppm
3、工作压力:≤0.6Mpa
4、电 源:380V 50HZ
5、除氧器工作温度:常温
6、干燥器工作温度:常温
7、干燥器再生温度:350℃
除氧器再生温度:350℃
8、装机功率:2KW
9,外形尺寸 500×500×1200mm
10、重量, 95kg
一键启动氮气纯化装置全自动氮气纯化器实验室氮气纯化机装置组成
1、吸附干燥(除氧)器 2台
2、精密镍管过滤器 1台
3、配套仪器仪表及应用低压电器 1套
4、三通阀门、电磁阀,管路 1套
4、机箱 1
5,盘管式冷却器 1套
本系列装置以深冷法制氮、PSA变压吸附制氮,氮膜分离制氮的普通氮气为原料,经过加氢催化除氧,冷凝、吸附二级干燥,过滤,除去氮气中的杂质氧、二氧化碳、水份和尘埃,获得高纯度的氮气。用户对纯氮中的含氢量有特殊要求时,可以通过工艺手段来控制氮气中的氢气含量。若原料氮的氧含量超过0.1%时,则可用加氢除氧和除氢的方式来获得无氢高纯氮,若原料氮的氧含量小于0.1%,则采用化学除氧工艺方法。
制氮机氮气纯化机氮气纯化装置
技术指标
产品气量:(1-300)Nm3/h纯度:≥99.9995%氧含量:≤0.1ppm氢含量:≤1ppm露点:≤-70oC
一键启动氮气纯化装置氮气纯化器批发氮气纯化装置
装置特点:
1. 催化剂采用了进环保的催化材料。具有吸附深度高,吸收杂质气量大的特点,经催化吸附干燥过滤后使其最终纯度达99.99***以上。100级的气体出口过滤器使其最终纯气颗粒小于0.1μ,确保气体满足高纯气要求,原位再生功能***了气体的品质如一,达到了环保节能的最终目的
2. 本装置所有阀门,容器,管路全系不锈钢制作,均采用国内外专业制造企业的名优产品,直接***了设备工作过程中的高真空无渗透及无故障运行***性。
3. 精致的控制仪表,电路电器选自高端跨国公司,如西门子,施耐德等。
4. 设备所有连接接头均选自知名企业***的VCR接头,***渗漏,安全快捷。
5. 人性化的外观设计,使设备外形精巧更美观,操作更方便
6. 进出口微氧分析仪在线监测,直观显示原料气体氧含量及纯化后的氧气含量。
7. 纯气最终过滤系统一用一备,更具人性化,***解决无故障运行顾虑。
8. 加氢还原系统采用质量流量计控制,真正做到定时定量全自动运行。
9. 一键式启动设备,工作状态实时显示,操作简单、安全、明了。
10. 严格的质量控制,在制作过程中,邀请需方作全过程跟踪督察。
用途
高纯氮气广泛应用于电子、冶金、化工、热处理、化纤、食品等部门,有些热处理工艺需要在氮气中加入一定比例的氢气时,我们可提供自动加氢装置。
变压吸附制氮工作原理,变压吸附制氮采用碳分子筛为吸附剂。一定的压力下,碳分子筛对空气中的氧的吸附远大于氮,因此通过可编程序控制气动阀的启闭,A、B两塔可以交替循环,加压吸附、减压脱附,完成氧氮分离,得到所需纯度的氮气。典型用途:灌充短路器中电压气体,大规模集成电路,彩色与黑白显象管,电视机与录音机零部件以及制造半导体和电器用保护气体,激光打孔等电气元件生产的氮基气氛。技术指标· :流量:1~1000Nm/h· 纯度:含氧量≤0.5ppm· 压力:0.05~1.0Mpa· 露点:≤-80℃